케이씨텍은 반도체와 디스플레이 제조 공정에 쓰이는 장비·소재를 만들어 팝니다. 핵심은 웨이퍼를 화학적·기계적으로 평탄하게 연마하는 화학적·기계적 연마(CMP) 장비, 웨이퍼 불순물을 제거하는 습식 세정 시스템, 그리고 반도체 연마 공정용 슬러리 소재입니다.
- 반도체 쪽 제품은 화학적·기계적 연마(CMP) 장비, 습식 세정 시스템, 연마 소재가 중심입니다.
- 디스플레이 쪽은 Wet Station, 이산화탄소 세정 모듈, Coater 같은 공정 장비를 다룹니다.
공시 근거
반도체 장비 제품으로는 CMP, Wet Cleaning System이 있으며, 디스플레이장비는 Wet Station, APP, CO2 Cleaner, Coater가 있습니다.
그리고 소재는 Ceria Slurry, Silica Slurry, Zirconia, Hollow Silica가 있습니다.
CMP : Wafer를 화학적 반응과 기계적 힘을 이용하여 평탄하게 연마